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產品型號:H-CVD-1200R
產品品牌:翰軍
接受定制:是
交貨周期:30工作日
上架時間: 2021-02-22 09:56:54
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一、概述:
這款配置的高真空CVD系統集快速紅外加熱爐,2通道氣路系統和真空系統組成。真空系統采用中科科儀FJ-110機組。控制電路選用模糊PID程控技術,具有控溫精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。本套系統用于CVD退火,也可以應用于于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
二、主要技術參數
快速紅外加熱爐 |
電壓 |
AC3800V 50/60Hz |
功率 |
24KW |
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加熱區長 |
400mm |
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最高使用溫度 |
1100℃ |
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工作溫度 |
≤1000℃ |
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升溫速率: |
≤300℃/min |
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溫控系統 |
PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率, 30段可編程控制器, |
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恒溫精度 |
±5 |
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石英管 |
Φ50/60/80100*1400mm |
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兩路質量流量控制系統 |
最大電壓 |
185~245V/50Hz |
最大輸出功率: |
18W |
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流量計標準量程 |
300SCCM |
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工作溫度: |
5~45 oC |
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工作壓差: |
0.1~0.5 MPa |
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最大壓力: |
3Mpa |
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準確度: |
±1.5% FS |
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真空系統 |
產品型號:F-100/150型渦輪分子泵 廠家: 中科科儀 技術參數: 抽速速率(l/s):150 進氣口法蘭:LF100(ISO-K) 排氣口法蘭:KF25 壓縮比:N2: 108 H2:5X10102 建議啟動壓強:<100pa 額定轉速(rpm):42300 啟動時間(min):≤2 冷卻方式:風冷 冷卻溫度(℃):≤25 安裝方式:水平或者垂直 重量:8kg 2.2干泵: 產品型號:GWSP300 廠家:沈陽紀維, 技術參數: 極限真空度 Pa 2.60 排氣速度 l/s 4.30 m3/h 15.5 噪音值 dB(A) ≦60 漏率(排氣口和氣鎮閥關) Pa·m3/s 1×10-8 最大進/排氣壓力 MPa 0.1 /0.13 進/排氣口尺寸 KF25/KF16 工作環境溫度 ℃ 5~40 冷卻方式 風冷 單相電機 功率 0.55 電壓 V 200~230V, 50Hz 轉速 rpm 1425(50Hz), 接頭形式 國標、 轉速 rpm 1425(50Hz), 外形尺寸 : 495×305×355 凈重 單相 kg 27 其他 帶氣鎮閥 電阻真空計: 測量范圍:(1.0x105~1.0x10-1)pa 配備規管:ZJ-52T(可選擇接口) 測量路數:1路 顯示方式:LED數碼顯示或雙顯(可選) 電源:AC220V±10%50HZ 攻耗:20W 重量:≤1KG 機箱尺寸:96*96 控制路數:2路(可擴展) 控制范圍:(1.0x105~1.0x10-1)pa 控制方式:點控或區域控制 控制點負載能力:AC220V/3A無感負載 測量精度:±30% 響應時間:〈1S 模擬輸出:(0~5)V;(4~20)mA(選配) 通訊接口:RS-232;RS-485(選配) |
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法蘭及支撐 |
304不銹鋼快速水冷法蘭,長期水冷無腐蝕一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷可調節的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合,4個密封硅膠圈等 |
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可選配件 |
混氣系統,中、高真空系統,各種剛玉坩堝,石英管,計算機控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀,冷卻水循環機等。 |