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CVD氣相沉積系統

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滑動式CVD系統

產品型號:H-CVD-1200

產品品牌:翰軍

接受定制:是

交貨周期:15個工作日

上架時間: 2017-12-19 18:01:00

瀏覽次數: 3048次

概述:

這款配置的低真空CVD系統集1200真空管式爐,3通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產

(有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質子流量控制

器和浮子流量控制器)。真空泵、閥均采用進口設備,性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術,具有控溫

精度高,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷

基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。

主要技術參數:

1200雙溫區加熱爐

電壓

AC220V    50/60Hz

功率

4.5KW雙溫控

加熱區長

220mm,恒溫區長度:100mm

最高溫度

1150

工作溫度

1100

升溫速率:

15/min

溫控系統

PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率, 30段可編程控制器

恒溫精度

±1

石英管

φ

25/50/60/80*1400mm

 

 

 

三路質量流量控制系統

 

 

 

 

 

 

最大電壓

185~245V/50Hz

最大輸出功率:

18W

流量計標準量程:

50100 200500SCCM;(非特殊指定以氮氣標定,量程可選定)

工作溫度:

5~45 oC

工作壓差:

0.10.5 MPa

最大壓力:

3Mpa

準確度:

±1.5% FS

 

低真空系統

 

1.采用雙極旋片真空泵,真空度可達5×10-Torr不銹鋼充油真空壓力表,良好的抗震性

2.安裝過濾器

內置測溫系統

測溫元件可從加熱區邊緣延伸至溫區中心法蘭密封,保證爐管的密封性測溫元件: N型熱電偶

法蘭及支撐

304不銹鋼快速水冷法蘭,長期水冷無腐蝕一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷可調節的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐

包含進氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合,4個密封硅膠圈等

可選配件

混氣系統,中、高真空系統,各種剛玉坩堝,石英管,計算機控制軟件,無紙記錄儀,氧含量分析儀,冷卻水循環機等。

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